GAS

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Pure Gas

반도체 디바이스 제조공정에는 다양한 공정용 가스들이 필요로 하는데 크게 벌크가스(Bulk or Carrier Gas) 및 공정용 가스(Electronics Specialty Gases)로 대별되고 벌크가스 라 함은 산소, 질소, 알곤, 수소 등으로 공정 중에 분위기가스로 다량 사용되어지는 가스를 총칭하고 공정용 가스라 함은 디바이스의 패턴 형성 및 장비 세척용에 사용되는 가스를 말한다. 공정 및 장비세척용 가스에는 WF6, SiH4, PH3, AsH3, BCl3, HF, ClF3, NF3 및 여러 종류의 도판트 가스들이 공정에 따라서 사용되어지고 있다. 대부분의 반도체 공정용 가스들은 맹독성이거나 자연발화성이 강한 가스들로 안전 메뉴얼에 엄격히 준해서 저장, 취급 및 운송을 해야 한다. 아래 반도체 공정용 가스들은 국내외 생산자를 통해 소싱하여 공급되고 있다.
 
 


Product List

Product list
Arsine AsH3 Diborane B2H6 Boron Trichloride BCl3 Boron Fluoride BF3
Hexafluorobenzene C2F6 Trifluromethane CHF3 Phosphine PH3 Tungsten Hexafluroride WF6
Chlorine trifluoride ClF3 Tetrafluoromethane CF4 Hydrogen Bromide HBr Carbon Dioxide CO2
Hydrogen H2 Oxygen O2 Hydrogen Chloride HCl Nitrogen N2
Chlorine Cl2 Nitrogen Trifluoride NF3 Nitrous Oxide N2O Ammonia NH3
Difluoromethane CH2F2 Hydrogen Selenide H2Se Hydrogen Sulfide H2S